ネガ型（ポリイソプレンベース） : 概要

さまざまな基板上での幅広い投影、近接および接触回路パターン形成、ウェットエッチングのニーズに適用できる、複数シリーズのネガ型、ポリイソプレンベース系のレジストがあります。

• SCレジストシリーズ
  コンタクトプリンターの露光で1.8～10µmのコーティングを必要とする厚膜用途に設計されています。
• ICタイプ3レジストシリーズ
  投影、近接、コンタクトプリンターでの露光用に0.75～2.0µmのコーティングが必要な用途に設計されています。
• HNRレジストシリーズ
  近接およびコンタクトプリンターでの露光用に0.50～1.40µmのコーティングが必要な高解像度用途に設計されています。
• HRレジストシリーズ
  投影、近接、コンタクトプリンターの高反射率基板での露光に対し、0.70～1.50µmのコーティングが必要な用途に設計されています。