さまざまな基板上での幅広い投影、近接および接触回路パターン形成、ウェットエッチングのニーズに適用できる、複数シリーズのネガ型、ポリイソプレンベース系のレジストがあります。
- SCレジストシリーズ
コンタクトプリンターの露光で1.8～10µmのコーティングを必要とする厚膜用途に設計されています。 - ICタイプ3レジストシリーズ
投影、近接、コンタクトプリンターでの露光用に0.75～2.0µmのコーティングが必要な用途に設計されています。 - HNRレジストシリーズ
近接およびコンタクトプリンターでの露光用に0.50～1.40µmのコーティングが必要な高解像度用途に設計されています。 - HRレジストシリーズ
投影、近接、コンタクトプリンターの高反射率基板での露光に対し、0.70～1.50µmのコーティングが必要な用途に設計されています。
