幅広い厚さのレジストのさまざまな基板上で0.30µm以下から1.0µmを超える解像度まで対応し、クリティカルからノンクリティカルなケースまで適用可能な中波紫外線感度フォトレジスト拡張シリーズです。
- 非反射基板に対応する高機能なi線用レジスト
非反射基板上での要求の厳しいクリティカルCD（<350nm）回路パターン形成用に設計されたレジストファミリー：- OiR 620シリーズ
- OiR 674シリーズ
- 非反射基板に対応する高機能なi線用レジスト
非反射基板上での要求の厳しいクリティカルCD（<350nm）回路パターン形成用に設計されたレジストファミリー： - 反射基板に対応する高機能なi線用レジスト
反射基板上での高度な解像度（>350nm CD）のパターン形成用に高速フォトスピードオプションを提供するレジストシリーズ：- OiR 674シリーズ
- GiR 1102シリーズ
- GiR 2201シリーズ
- 多用途高解像度i線用レジスト
高スループット、高解像度（>500nm CD）、および堅牢なパターン形成のための最速フォトスピードオプションを提供するレジストシリーズ：- OiR 305シリーズ
- OiR 366シリーズ
- OiR 906シリーズ
- OiR 907シリーズ
- 多用途なg線、i線、広帯域用レジスト
g線、i線、広帯域（>800nm CD）用の堅牢なパターン形成を提供するレジストシリーズ：- HiPR 6500シリーズ
- HPR 510シリーズ
- 高反射率基板用染色レジスト
高反射率基板でのCDやノッチングを制御するための、非白化・高光学濃度のレジストシリーズ：- OiR 906MD
- OiR 906HD
- OiR 305HC
- HiPR 6500GH
- HiPR 6500HC
- 厚膜に対応したi線用レジスト
膜厚3～13µmまでの厚膜パターン形成のニーズに対応したレジストシリーズ：- FHi-560EP
- GiR 3114
- OiR 305
- OiR 908
