ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTD）など、193nm露光に対応した高解像度回路パターン形成システムの豊富なラインアップを有しております。
- 高いスループット
- 優れた解像度
- プロセスウィンドウが広い
- 低欠陥レベル
- 垂直プロファイル
製品ラインアップ
- GARシリーズ
GARシリーズの製品は、193nmのドライ露光を必要とする様々な用途に適しています。 - PTD（ポジ型現像）用FAiRSシリーズ
FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とポジ型現像を必要とする様々な用途に適しています。 - NTD（ネガ型現像）用FAiRSシリーズ
FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とネガ型現像を必要とする様々な用途に適しています。
