ArF（193nm） : 概要

ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTD）など、193nm露光に対応した高解像度回路パターン形成システムの豊富なラインアップを有しております。

• 高いスループット
• 優れた解像度
• プロセスウィンドウが広い
• 低欠陥レベル
• 垂直プロファイル

• GARシリーズ
  GARシリーズの製品は、193nmのドライ露光を必要とする様々な用途に適しています。
• PTD（ポジ型現像）用FAiRSシリーズ
  FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とポジ型現像を必要とする様々な用途に適しています。
• NTD（ネガ型現像）用FAiRSシリーズ
  FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とネガ型現像を必要とする様々な用途に適しています。