富士フイルムグループは、竹田麗央選手を応援しています。
富士フイルムホールディングス株式会社は、熊本県（菊陽町）にて、最先端の半導体材料を生産しています。熊本県を代表するアスリートの一人である竹田麗央選手の活動をサポートしていくとともに、女子プロゴルフへの支援を通じて多くの皆さまに感動と笑顔を届けることを目指します。
世界で最も信頼される半導体材料パートナーを目指して
当社は、半導体製造に使用される電子材料製品を幅広く提供しており、グローバルでの安定供給体制、高い研究開発力、お客さまとの強固な信頼関係を強みに事業成長を加速し、最先端の半導体材料を開発・提供することで半導体業界の発展に貢献しています。国内製造拠点を、静岡、大分、熊本に有しており、米国、欧州（ベルギー、フランス、イタリア、イギリス）、アジア（中国大陸、台湾、韓国、シンガポール）にも海外拠点を有しています。
「CONNECTED」
「CONNECTED」という言葉は、半導体事業における私たちの取り組み方、働き方を表しています。私たちのネットワークはグローバルに広く展開していますが、「ONE FUJIFILM Electronic Materials（ひとつのチームとしての富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ）」として一丸となっています。私たちは革新的な製品と安定したサプライチェーンを世界中の半導体製造業界のお客さまに提供し、社会、人々のつながりを支えていきます。
半導体製造プロセス／イメージセンサー製造プロセスと当社製品
当社は、フォトレジストやフォトリソグラフィー周辺材料、CMPスラリーなど、幅広い製品を提供しています。簡単な半導体製造プロセスやイメージセンサー製造プロセスと合わせて、当社が提供している製品をご紹介いたします。
半導体製造プロセスの簡略図
半導体製造プロセス：フォトマスク作成
1. フォトマスク用レジスト塗布
ガラスでできたフォトマスクの基板にフォトマスク用レジストを塗布
2. 回路パターン描画
電子ビームを当ててフォトマスクの基板に回路パターンを形成
3. レジスト剥離
不要になったフォトレジストを剥離
関連製品
半導体製造プロセス：レジスト塗布～露光
1. フォトレジスト塗布
半導体の土台となるウェハー上に電気を通さない絶縁膜、さらにその上にフォトレジストを塗布
2. 露光
フォトマスクをかざした上から露光し、フォトレジストに回路パターンを形成
半導体製造プロセス：現像～エッチング
1. 現像
ポジ型であれば感光した部分、ネガ型であれば感光していない部分のフォトレジストを現像液で除去
2. エッチング
現像後に露出した絶縁膜を除去
3. レジスト剥離・洗浄
残ったフォトレジストを剥離し、剥離しきれなかったフォトレジストはクリーナー・エッチャントで除去
半導体製造プロセス：研磨～絶縁膜形成
1. 配線用金属埋め込み
回路パターンの中に配線となる金属を蒸着
2. 表面を均一・平坦化
凹凸のある表面をCMPスラリーで研磨
3. 洗浄
研磨後に残った不純物を除去
4. 絶縁膜形成
半導体の精度低下を防止するための薄膜形成材料を塗布
関連製品
半導体製造プロセス：洗浄・乾燥
ウェハー表面にわずかでも不純物や汚れがあると半導体の品質低下につながるため、洗浄工程・乾燥工程は非常に重要な工程です。
半導体製造プロセス：再配線
チップを後工程用ウェハーの上に再配置し、再配線用材料塗布、露光、現像、配線を繰り返して複数層を形成します。
1. ポリイミド塗布
チップを後工程用ウェハーの上に再配置し、チップ上部に再配線用ポリイミドを塗布
2. 露光
フォトマスクをかざした上から露光し、パターン形成
3. 現像・配線形成
ポジ型であれば感光した部分、ネガ型であれば感光していない部分のポリイミドを現像液で除去し、銅メッキで配線を形成
4. 配線層を積層
ポリイミド塗布、露光、現像・配線形成を繰り返して複数層を形成
イメージセンサー製造プロセス
1. カラーレジスト塗布
土台となるウェハー上にカラーレジストを塗布
2. 露光
格子状のフォトマスクをかざした上から露光し、パターン形成
3. 現像
ネガ型であれば感光していない部分のカラーレジストを現像液で除去
4. RGBのフィルター形成
RGBの各色でカラーレジスト塗布、露光、現像を行い、格子状のフィルターを形成
