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シリコンウェハ

Low-k(低誘電率)材料 : 概要

45/22nmノード以下用の高度な誘電体

当社の薄膜システムグループは、45/22nmノード以下用のLow-k(低誘電率)誘導体のリーダーとして急速に台頭してきました。

富士フイルムは45/22nmノード以降のLow K(低誘電率)誘導体のリーダーとして急速に台頭してきました。
富士フイルムでは、危険源や規制上の問題、精製、パッケージ、テストを確認し、研究開発用サンプルの提供を数週間以内に行うことができます。高度な精製、パッケージの互換性、安定性、分析、および先進的な化学物質の供給に重点を置いています。

製品ラインアップ

  • MDEOS
  • ATRP
  • BHDIIIx
  • OMCTS
  • DMDMOS
  • VMDMOS
  • ヘキサメチルジシラン

およびそのほかの多くの先進的なオルガノシランの研究開発製品

特長

  • サプライチェーン、精製、製品の挙動(安定性など)の改善に注力
  • 1.2L~200Lのステンレス製容器
  • 現場での最先端の分析ラボによる解析
  • 健康に対する有害性の評価
  • 特殊なラベリング対応
  • 全世界への出荷
  • 精製からプロセスチャンバーへの一貫供給

お問い合わせ

製品・サービスに関するお問い合わせ・資料請求は、富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ(株)で承っております。電話またはウェブより、お気軽にお問い合わせください。

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