光塩基発生剤（Photo Base Generator）は、UVの照射によってアミンなどの有機塩基を発生する化合物です。発生した有機塩基によって、エポキシ樹脂の硬化、ゾル-ゲル法などを進行させます。
◎空気中で使用可能。（硬化阻害がない）
◎後硬化が可能。（活性種のアニオンが失活しない）
◎金属配線上で使用可能。（金属腐食を生じにくい）
| 活性種 | 反応例 | 阻害要因 | 後硬化 | 金属腐食 |
|---|---|---|---|---|
| ラジカル |
 |
O2 | × | なし |
| カチオン |
 |
H2O | ○ | あり |
| アニオン |
 |
なし | ○ | なし |
有機塩基は、その求核性や塩基性を活かすことで、種々の硬化反応を起こすことができます。 また、硬化系以外にも、解重合の触媒、酸の中和剤などさまざまな目的にご使用いただけます。
◎多官能チオールや酸無水物などの架橋剤を併用することでエポキシ樹脂を硬化できます。
◎光照射により、強塩基であるビグアニド（pKbH=31.8）とラジカルが発生します。
◎各種増感剤を併用することで長波長領域に感光性を示します。
◎WPBG-300に比べ硬化性能は劣りますが、各種組成物中での安定性が高いです。
◎WPBG-300と同様に使用できます。
◎各種増感剤を併用することで長波長領域に感光性を示します。
◎ゾル-ゲル法の硬化触媒に最適です。
◎光照射により、高い量子効率で強塩基であるビグアニド（pKbH=31.8）とラジカルが発生します。
◎水にも有機溶剤にも溶解します。
◎東京理科大学の有光教授と共同開発したPBGです。
◎長波長領域に吸収を持ち、溶解性に優れています。
◎光照射により、弱塩基であるジエチルアミンが発生します。
◎光照射により、弱塩基であるピペリジンが発生します。
◎光分解の際にガスが発生しません。
◎光照射により、求核性の高い塩基であるイミダゾールとラジカルが発生します。
◎350 nm付近まで吸収領域を有しています。
◎メタクリル基を有し、ラジカル重合で高分子中にPBGを導入できます。
◎光照射により、弱塩基である4-メタクリルオキシピペリジンが発生します。
