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ポジ型およびネガ型フォトレジスト除去用の溶剤系剥離液
シングルウェハおよびバッチプロセスにおけるバルクおよび厚膜めっきフォトレジストのウェット除去に使用されます。
現像液
ポジ型およびネガ型レジストシステム用の金属イオン含有（MIC）および金属イオンフリー（MIF）現像液を幅広く取り揃えています。
溶剤
レジストのエッジビード除去（EBR）、再加工、リンスおよびプリウェット用途の幅広い特殊な溶剤ブレンド。高度なリソグラフィプリウェット用途に対応した超高純度溶剤。
