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0.30μm 이하에서 >1.0μm 이상의 해상도를 아우르는 임계 및 비임계 응용 분야를 위한 다양한 중파 자외선 감광성 포토레지스트 시리즈.
ArF(193nm)
포지티브 건조 및 액침 이미징, 네거티브 톤 현상(NTD)용 소재
KrF(248nm)
다양한 응용 분야를 커버하는 포지티브 톤 KrF 포토레지스트
네거티브(폴리아이소프렌 기반)
다양한 네거티브 톤, 폴리아이소프렌 기반 레지스트 시스템 시리즈
e-빔
다양한 e-빔 이미징 애플리케이션을 위한 포지티브 및 네거티브 톤 레지스트 시리즈
