이 웹사이트는 쿠키를 사용합니다. 본 사이트를 사용하시면 귀하는 당사의 개인정보 보호 정책에 동의하시는 것입니다.
레지스트 에지 비드 리무벌(EBR), 재가공, 린스 & 프리웨트 용도의 다양한 특수 용제 혼합물. 고급 리소그래피 프리웨트 응용 분야용 초고순도 용제
현상액
포지티브 및 네거티브 레지스트 시스템을 위한 다양한 MIC(금속 이온 함유) & MIF(금속 이온 무함유) 현상액
포토레지스트 스트리퍼
포지티브 및 네거티브 톤 포토레지스트 제거를 위한 용제 기반 스트리퍼
