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식각 공정을 위한 다양한 습식 화학 제품
당사는 프리웨트, 에지 비드 리무벌, 컵 린스, 현상, 포토레지스트 스트리핑, 세정 및 린스 등의 식각 공정을 위한 다양한 화학 제품을 제공합니다.
포지티브 및 네거티브 레지스트 시스템을 위한 다양한 MIC(금속 이온 함유) & MIF(금속 이온 무함유) 현상액
레지스트 에지 비드 리무벌(EBR), 재가공, 린스 & 프리웨트 용도의 다양한 특수 용제 혼합물. 고급 리소그래피 프리웨트 응용 분야용 초고순도 용제
포지티브 및 네거티브 톤 포토레지스트 제거를 위한 용제 기반 스트리퍼
