研究報告書（全文）
研究報告書（分割版）
研究者：田代 朋子、中畝 明菜、小杉 拓治、荒河 純、森 久容、芹澤 慎一郎、鈴木 啓一、森 冬比古、織笠 敦、中村 善貞
研究者：中村 健太郎、景山 茂樹、田中 秀明、川崎 和也、寺島 薫
研究者：田中 哲哉、榎本 淳、鍋田 敏之、吉田 太、小田 泰史、北田 信
研究者：青島 徳生、渡辺 年宏
研究者：秋葉 雅温、高橋 依里、滝沢 裕雄、佐々木 俊央、望月 英宏、見上 竜雄、北原 淑行
研究者：渡辺 健太郎、宮本 隆司、沢野 哲也、浅井 有人、羽田 典久
研究者：松本 徹也、山路 啓、塚越 一真、松原 俊夫
研究者：相磯 正司（*1）、湯浅 耕季（*1）、鈴木 圭一
研究者：岩城 康晴、内田 充洋
研究者：朝倉 克宜、吉川 直紀、大貫 良子
- *1 印は富士フイルム株式会社以外の研究者または共同研究者
転載リスト
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半導体可飽和吸収ミラーを用いた手のひらサイズ、ピークパワー1.5kW、フェムト秒（160fs）、半導体レーザー励起モード同期固体（Yb+3:KY（WO4）2）レーザー
研究者:山添 昇吾、加藤 雅紀、足立 貴志、笠松 直史
掲載誌:Optics Letters, 35（5）, 748-750 （2010）.
キナクリドンナノ粒子の光励起状態と耐光性
研究者:宮下 陽介、横山 裕、田邊 守、笠井 均（*1）、中西 八郎（*1）、宮下 徳治（*1）
掲載誌:Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 201（2-3）, 208-213 （2009）.
超解像有機レジスト材料により40nmパターンを描画可能な405nmレーザ熱リソグラフィ
研究者:宇佐美 由久、渡辺 哲也、金澤 吉憲、多賀 一晃、川合 浩司、市川 紀美雄
掲載誌:Applied Physics Express, 2（12）, 126502-1－126502-3 （2009）.
BiXO3 におけるボルン有効電荷と圧電係数
研究者:奥野 幸洋、坂下 幸雄
掲載誌:Japanese Journal of Applied Physics, 48（9）, 09KF04-1－09KF04-4 （2009）.
高記録密度テープストレージシステム用塗布型バリウムフェライト媒体
研究者:原澤 建、鈴木 涼太、清水 治、Sedat Ölçer（*1）、Evangelos Eleftheriou（*1）
掲載誌:IEEE Transactions on Magnetics, 46（6）, 1894-1897 （2010）.
新規剥離法を用いたエアロゾルデポジション法による積層圧電素子の作製
研究者:三好 哲
掲載誌:Journal of the Ceramic Society of Japan, 117（1368）, 899-903 （2009）.
C60 ドープ高分子層とa-Seを用いたデジタルラジオグラフィー用大面積直接変換検出器の新規開発
研究者:成行 書史、今井 真二、渡野 弘隆、鍋田 敏之、細井 雄一
掲載誌:Proceeding of SPIE, Medical Imaging 2010: Phyjics of Medical Image, 7622, 762240-1-762240-7 （2010）.
低ヘイズVA補償TACフィルムの開発およびVAパネルのコントラスト比改善のための補償フィルム配置の提案
研究者:網中 英一郎、林 秀典、中山 元、石黒 誠、齊藤 之人、伊藤 洋士、御林 慶司、木島 まどか、田中 秀明
掲載誌:SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 822-825 （2010）.
光学補償フィルムによるVA-LCDの正面光漏れ低減
研究者:石黒 誠、関口 恵、齊藤 之人、石原 信、宮﨑 桂一、御林 慶司
掲載誌:SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 826-829 （2010）.
パブリックディスプレイに適した新規クリアARフイルム
研究者:及川 徳樹、鈴木 貴登、三森 悠太郎、渡部 淳、須賀 陽一、御林 慶司
掲載誌:SID 10 Digest of Technical Papers, 41, BookⅡ, 1548-1551 （2010）.
EUVリソグラフィーにおける解像性とLWRの酸拡散コントロールでの改良
研究者:椿 英明、土橋 徹、土村 智孝
掲載誌:Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI, 7273, 72731K-1-72731K-8 （2010）.
ダブルパターニング用ネガトーン現像プロセスへのプロセスパラメータの影響
研究者:樽谷 晋司、上村 聡、横山 滋郎（*1）
掲載誌:Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII, 7639, 76391Q-1-76391Q-8 （2010）.
- *1 印は富士フイルム株式会社以外の研究者または共同研究者