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再沈法によるペリレンナノ粒子形成機構のストップトフロー法による解析
研究者:森 淳一、宮下 陽介、ダニエル オリベイラ(*1)、笠井 均(*1)、及川 英俊(*1)、中西 八郎(*1)
掲載誌:Journal of Crystal Growth 311(3), 553-555(2009).
化学誘導体化とTOF-SIMSを用いた薄膜表面と内部の重合挙動解析
研究者:前川 敏彦、千賀 武志
掲載誌:Applied Surface Science 255(4), 987-991(2008).
有効モデルハミルトニアンによるBaTiO3の電場誘起構造相転移の研究
研究者:奥野 幸洋、坂下 幸雄
掲載誌:Japanese Journal of Applied Physics 48(2), 021403-1-021403-7(2009).
色素系光ディスクの熱安定性改良 : 水素結合の効果
研究者:斎藤 直樹、秋葉 雅温、稲垣 由夫、柴田 路宏、石田 寿男、久保 裕史
掲載誌:Japanese Journal of Applied Physics 48(4), 042402-1-042402-4(2009).
基板拘束が多結晶圧電膜の電気特性に及ぼす影響
研究者:三好 哲、中島 光雅(*1)、舟窪 浩(*1)
掲載誌:Japanese Journal of Applied Physics 48(9), 09KD09-1-09KD09-6(2009).
EUVリソグラフィーにおけるLWRと解像性の改良についての研究
研究者:山下 克宏、上村 聡、高橋 秀知、西川 尚之
掲載誌:Journal of Photopolymer Science and Technology 21(3), 439-442(2008).
32nmノードの193nm液浸ダブルパターニングプロセスに向けたネガ現像用材料及びプロセスの開発
研究者:樽谷 晋司、椿 英明、上村 聡
掲載誌:Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI 7273, 72730C-1-72730C-8(2009).
EUVリソグラフィーにおけるレジストポリマー分子量の影響
研究者:椿 英明、山下 克宏、高橋 秀知、河村 大輔(*1)、井谷 俊郎(*1)
掲載誌:Proceeding of SPIE, Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI 7273, 72733S-1-72733S-10(2009).
Barrier-CMPスラリーにおける平坦性の改良方法
研究者:上村 哲也、関 裕之、安波 昭一郎
掲載誌:Proceeding of International Conference on Planarization/CMP Technology 2008, 43-50(2008).
新規2層a-Seディテクターを用いた直接変換デジタルマンモグラフィシステムの画質評価
研究者:桑原 孝夫、岩崎 信之、千代 知成、古江 亮介、阿賀野 俊孝
掲載誌:Proceeding of SPIE, Medical Imaging 2009: Physics of Medical Imaging, 7258, 72584P-1-72584P-12(2009).
機械学習を用いた3次元CT画像から椎骨中心線の抽出
研究者:王 彩華、李 元中、伊藤 渡、志村 一男、阿部 克己(*1)
掲載誌:Proceeding of SPIE, Medical Imaging 2009: Imaging Processing, 7259, 72594T-1-72594T-8(2009).
継承と進化に基づいた人物頭追跡技術
研究者:胡 軼、高森 哲弥
掲載誌:Proceeding of MVA 2009: IAPR Conference on Machine Vision Applications, 162-165(2009).
シーンに応じた撮像方式を有するCCDイメージセンサーと撮像システムの開発
研究者:小林 誠、田中 誠二、小田 和也、池田 勝己、林 健吉、西村 享
掲載誌:International Symposium on Technologies for Digital Fulfillment Abstract Book and CD-ROM, 1-4(2009).