このウェブサイトはクッキーを使用しています。このサイトを使用することにより、プライバシーポリシーに同意したことになります。

日本

エレクトロニクスマテリアルズ研究所 フォトレジスト開発者

“動ける研究者”として商品開発を成功に導く

スマートフォンやパソコン、家電、自動車など、あらゆる製品やサービスに利用される半導体。技術が日々進歩し、市場環境も目まぐるしく変化し続ける分野の最前線で、入社以来半導体材料の研究開発に携わってきた研究者がいます。最近では東アジア市場向けに多くの商品を開発。“動ける研究者”をモットーとする彼に、その意味や、東アジア市場でのチャレンジなどを語ってもらいました。

主な業務
  • 半導体材料(フォトレジスト)の研究開発。
  • フォトレジスト開発を通じて5Gをはじめ、現代社会のさまざまな機器やシステムを支えている。
挑戦エピソード
  • よりよい製品開発のために“動ける研究者”を目指す。
  • 海外顧客のコンペで2位に。諦めずに品質改善を続けた結果、逆転勝利を収める。
  • 幅広い専門家がいる富士フイルムの強みを生かし、社会に貢献する。
半導体製造に欠かせないフォトレジストの研究開発に取り組む

光を受けて化学変化を起こす性質を持つ感光材料で、半導体に回路パターンを描くために用いられる。半導体製造に欠かせないもの。露光、現像によるパターン形成後のエッチング(酸の腐食性を利用して表面を削る加工の技法の1つ)に耐える液状の化学薬剤で、ポリマー・感光剤・溶剤を主成分とする。
半導体は土台となるウエハーに微細な素子や配線からなる回路パターンが形成されている。フォトレジストはウエハーにその回路を転写する工程で使用される。

詳しくはこちら

波長が極めて短い(13.5nm)、極端紫外線(extreme ultraviolet)。
デバイスの小型化・高容量化に伴って、半導体集積回路(LSI)にはさらなる高集積化が求められている。集積率を高めるためには、より細い配線を半導体内部に作る必要があり、露光光源であるレーザーの波長を短くしなければならない。そこで最先端のプロセスでは、EUVを露光光源とすることで半導体回路を微細化し、機器の高性能化・低消費電力化・低コスト化を図っている。一方で、EUVの実用化には課題も多い。

商品開発には、顧客や協業先とのコミュニケーションが不可欠

半導体の性能の高さは集積率の高さと言える。集積率が高いほど処理スピードが速く、小型化が可能。小型化によって、機器の低消費電力化・低コスト化にもつながる。

研究所にとどまらない“動ける研究者”であれ
諦めずに努力しつづけることで、チャンスを生かし逆転勝利
富士フイルムの一員として社会課題の解決に貢献する