Tất cả các phương tiện từ tính đều sử dụng các hạt từ tính để lưu trữ thông tin kỹ thuật số. Và khi bạn làm cho các hạt nhỏ hơn, bạn có thể ghi nhiều hơn trên một đĩa hoặc băng. Nói cách khác, mật độ hạt cao hơn, và điều này làm cho băng mạnh hơn. Tuy nhiên, đáng tiếc là mọi thứ không đơn giản như vậy, bởi vì thông tin thực sự chỉ được ghi lại ở phần trên hoặc bề mặt của lớp từ tính. Phần dưới của lớp từ tính không chỉ là không cần thiết mà còn có thể làm giảm hiệu suất. Do đó, lớp từ tính mỏng hơn sẽ tốt hơn, nhưng rất khó để sản xuất. Và đó là lúc ATOMM phát huy sức mạnh.
Công nghệ phủ kép do Fujifilm phát triển là bí mật ẩn sau ATOMM. Một lớp dưới, phi từ tính và một lớp trên từ tính siêu mỏng được phủ đồng thời lên màng nền. Kết quả là kết cấu lớp kép độc đáo với rãnh chứa chất bôi trơn ở lớp dưới. Mặt khác, phương tiện từ tính thông thường sử dụng quy trình phủ lớp tín hiệu dẫn đến lớp từ tính dày có công suất thấp hơn. Điều này có thể gây ra lỗi dữ liệu, đặc biệt là ở tần số cao hơn được sử dụng để ghi mật độ cao.
- *1 ATOMM: Công nghệ phương tiện kim loại công suất cao & lớp siêu mỏng tiên tiến
Chỉ có bề mặt của lớp từ tính được từ hóa. Các lớp từ tính dày (hình minh họa A) thể hiện sự khử từ rõ rệt, dẫn đến mất công suất và có thể xuất hiện các lỗi dữ liệu. ATOMM (hình minh họa B) có lớp dưới phi từ tính và lớp trên từ tính siêu mỏng được từ hóa trong hầu như toàn bộ độ dày của lớp phủ, giảm thiểu việc khử từ tính và bảo vệ dữ liệu.
Bốn yếu tố đứng sau ưu điểm của công nghệ ATOMM:
- Bề mặt của lớp từ tính siêu mịn cho hiệu suất hoạt động mượt mà, ổn định.
- Chất liên kết có trọng lượng phân tử cao có khả năng chống lão hóa và tác động môi trường cực kỳ mạnh mẽ.
- Các chất bôi trơn ở lớp dưới giúp bảo vệ lâu dài cho lớp trên khi sử dụng nhiều.
- Lớp dưới có hiệu ứng đệm giúp đảm bảo tiếp xúc đầu với phương tiện tốt hơn.