| 年 | 内容 |
|---|---|
| 1983年 | 7月、富士写真フイルム株式会社（現在の富士フイルム株式会社）とPhilip A. Hunt Chemical Corporation（米国、現在のArch Chemicals,Inc.）との合弁会社「富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社」を設立し、フォトレジストの輸入販売を開始 |
| 1984年 | 静岡工場とテクニカルコミュニケーションセンターを設立し、国産フォトレジストの日本国内向け製造・販売とお客さまへのオンサイト技術サポート提供を開始 |
| 1989年 | 液晶ディスプレイのカラーフィルター用顔料分散感光材料「COLOR MOSAIC®」の製造販売を開始 |
| 1995年 | 静岡工場が「品質マネジメントシステム（ISO9002）の認証を取得 「COLOR MOSAIC®」製造専用棟を竣工・稼動して、リーディングサプライヤーとしての供給能力を整備 |
| 1996年 | 台湾市場拡大に伴い、現地生産会社FUJIFILM OLIN Taiwan Co., Ltd.（100％子会社／現在のFUJIFILM Electronic Materials Taiwan Co., Ltd.）を設立 |
| 1997年 | 4月、社名を「富士フイルムオーリン株式会社」に変更 |
| 1998年 | 静岡事業所内に最先端のマイクロリソグラフィ機器を備えたアドバンストリソグラフィセンター（ALC）を設置 静岡工場が「環境マネジメントシステム（ISO14001）の認証を取得 |
| 2000年 | 韓国市場拡大にあわせ、現地法人FUJIFILM OLIN Korea Co., Ltd.（100％子会社／現在のFUJIFILM Electronic Materials Korea Co., Ltd.）を設立 |
| 2001年 | 4月、社名を「富士フイルムアーチ株式会社」に変更 静岡工場が「品質マネジメントシステム（ISO9001）」の認証を取得 |
| 2002年 | 台湾市場に向けた液晶ディスプレイ用ワイドビューフイルム（富士フイルム製）の本格的な販売を開始 |
| 2004年 | 12月、富士写真フイルム株式会社（現、富士フイルム株式会社）が米アーチケミカルズ社の研究 開発・生産・販売部門であるMicroelectronic Materials部門（一部除く）を買収するとともに、同社が保有する当社の株式持分を取得。富士写真フイルム（現、富士フイルム株式会社）の100％ 子会社となり、社名を「富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社」に変更 |
| 2005年 | 1月、半導体市場の高い成長が見込まれる中国に、新たな生産・販売拠点として、FUJIFILM Electronic Materials (Suzhou) Co., Ltd. を設立。国内外において、半導体後工程（BEOL）材料などの分野にも事業拡大開始 |
| 2006年 | 1月、液晶ディスプレイ用材料（カラーレジストとフォトレジスト）の営業権を富士写真フイルム株式会社（現、富士フイルム株式会社）へ譲渡 |
| 2008年 | 45nm、32nm世代のリソグラフィに対応する最先端のArF液浸露光機器や関連設備を静岡工場内に整備 7月、静岡工場がIMS統合認証（ISO9001、ISO14001、ISO45001）を取得 |
| 2012年 | 3月、半導体市場の高い成長が見込まれる韓国に、現像液やCMPスラリー、クリーナーなど生産拠点として FUJIFILM Electronic Materials Manufacturing Korea Co., Ltd. を設立 |
| 2019年 | 4月、吸収分割により富士フイルム和光純薬株式会社の半導体プロセス材料の権利義務を承継 |